Масштабируемость, воспроизводимость и управляемость – технологический базис, позволяющей идее вырваться из лабораторий в реальное производство. Мы исправляем болезни роста методов очистки кремния, чтобы этой технологией мог пользоваться каждый.
Технологии получения чистых материалов не так уж новы. Вакуумная очистка материалов давно зарекомендовала себя надежным методом и хорошей альтернативой “химическому” пути, включающему получение газов, ректификацию и восстановление исходного материала. Так, электронно-лучевая ректификация тугоплавких металлов хорошо известна в промышленности, но не является традиционным методом в полупроводниковых технологиях, где до недавнего времени не было конкурентов у классического химического Сименс-процесса.
Однако, рост потребности в материалах для электроники и солнечной промышленности, высокие капитальные затраты, повышение цен на электроэнергию, осознание необходимости контроля оборота опасных химических соединений и выбросов делают Сименс-процесс все менее привлекательным. С другой стороны дешевеют и развиваются методы энергоэффективные методы металлургической очистки, такие как плазменная и электронно-лучевая плавка. Постепенно проникают в полупроводниковую промышленность и другие методы классической металлургии: шлакование и использование расплавов-растворов.
Мы используем свой опыт и знания полупроводникового производства, чтобы лабораторные технологии увидели воплощение в промышленном оборудовании